표면분석실
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1. 소개
 
표면분석실은 다양한 표면분석장비를 활용하여 전자부품, 반도체 재료, 고분자필름 등의 시료를 정밀하게 측정하여 시료 표면에 존재하는 미량의 성분들을 검출하고 이온빔을 통해 시료 내부 깊이별로 각 성분의 농도와 수직분포를 쉽게 확인할 수 있다. 또한 날카로운 탐침을 이용하여 시료표면의 거친 정도를 산출하고 표면형상을 3차원 입체이미지로 구현한다.
 

 

문의전화
총괄 / 책임 / TOF-SIMS, Profiler (Tel. 031-299-6764)
SC-XRD, HP-XRD, XRD (Tel. 031-299-6736)
AFM, XPS, UPS, AES, REELS (Tel. 031-299-6762)
 
 
2. 주요 분석업무
 
•표면 잔류 및 오염 성분 검출
•표면 성분 분포도(Mapping image) 출력
•표면 거칠기 산출 및 표면 형상 입체(3차원) 이미지 제공
•무기재료 정성 및 결정성 분석, 결정 면(Face)지수 확인
•일함수(Work function) 및 결합에너지(Binding energy) 산출
•시료 내부 깊이별 성분 분포(Depth profile) 측정
 
 
 
Cooperative Center for Research Facilities
ccrf logo국제공인시험기관(인정번호 KT352호)
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